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超細粉體的分散是基礎研究領(lǐng)域和工業(yè)技術(shù)部門(mén)普遍遇到的課題，其應用日益廣泛，如化工、醫藥、涂料、材料、食品等。分散技術(shù)不僅是提高產(chǎn)品質(zhì)量和性能及提高工藝效率*，而且是十分重要的技術(shù)手段。

但是由于超細粉體粒度小，極易產(chǎn)生自發(fā)凝并，表現出強烈的聚團特性，不論在空氣中還是在液相中均易生成粒徑較大的二次粉體，聚團的結果導致超細粉體材料性能的嚴重劣化。另一方面，在復合材料的制備過(guò)程中，由于超細粉體的這種強烈團聚特性和它與復合基體材料的極性差異，超細粉體很難均勻地分散在基體材料中形成均質(zhì)復合材料，是復合材料的性能難以達到人們預期的效果。

              所以為了解決這一問(wèn)題，各種類(lèi)型的分散設備應運而生，粉體的分散、混合與均化在粉體技術(shù)中有三個(gè)目的。其一是使團聚粉體的碎解和分散，盡力使團聚粉體達到單粉體分散；其二是在粉體制備過(guò)程中由于各部分或前后生產(chǎn)的產(chǎn)品的成分或粒度不均勻，而在使用時(shí)需要性能均一的粉體材料，為了消除各部分性能上的差異，需要對粉體材料進(jìn)行分散、混合與均化處理；其三是，有些粉體材料需要進(jìn)行改性處理，為了保證改性處理的均一性，也需要進(jìn)行分散、混合與均化處理。

膠體磨GM2000系列特別適合于膠體溶液、超細懸浮液和乳液的生產(chǎn)。除了高轉速和靈活可調的定轉子間隙外，GM在摩擦狀態(tài)下工作，也就被稱(chēng)做濕磨。在錐形轉子和定子之間有一個(gè)寬的入口間隙和窄的出口間隙，在工作中，分散頭偏心運轉使溶液出現渦流，因此可以達到更好的研磨分散的效果。GM2000整機采用先進(jìn)幾何機構的研磨定轉子，更好的表面處理和優(yōu)質(zhì)材料，可以滿(mǎn)足不同行業(yè)的多種需求。

高剪切膠體磨運行原理：

高剪切膠體磨在電動(dòng)機的高速轉動(dòng)下物料從進(jìn)口處直接進(jìn)入高剪切破碎區，通過(guò)一種特殊粉碎裝置，將流體中的一些大粉團、粘塊、團塊等大小顆粒迅速破碎，然后吸入剪切粉碎 區，在十分狹窄的工作過(guò)道內由于轉子刀片與定子刀片相對高速切割從而產(chǎn)生強烈摩擦及研磨破碎等。在機械運動(dòng)和離心力的作用下，將已粉碎細化的物料重新壓入精磨區進(jìn)行研磨破碎。精磨區分三級，越向外延伸一級磨片精度越高，齒距越小，線(xiàn)速度越長(cháng)，物料越磨越細，同時(shí)流體逐步向徑向作曲線(xiàn)延伸。每到一級流體的方 向速度瞬間發(fā)生變化，并且受到每分鐘上千萬(wàn)次的高速剪切、強烈摩擦、擠壓研磨、顆粒粉碎等，在經(jīng)過(guò)三個(gè)精磨區的上千萬(wàn)次的高速剪切、研磨粉碎之后，從而產(chǎn) 生液料分子鏈斷裂、顆粒粉碎、液粒撕破等功效使物料充分達到分散、粉碎、乳化、均質(zhì)、細化的目的。液料的zui小細度可達0.5um。

              
SGN膠體磨結構：

三道磨碎區：一級為粗磨碎區，二級為細磨碎區，三級為超微磨碎區。

我們的磨頭的結構：溝槽的結構式斜齒，每個(gè)磨頭的溝槽深度不一樣，并且斜齒的流道的體積從上往下是從大到下，而他們的斜齒的每個(gè)磨頭的溝槽深度一樣，流道體積是一樣大，這樣形成了本質(zhì)的區別。我們可以保證物料從上往下一直在進(jìn)行研磨，而他們只能在一級磨頭到另外一級磨頭形成研磨效果。

GM2000系列的特點(diǎn)：

1、定轉子被制成圓椎形，具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無(wú)限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離。

2、齒列的深度：從開(kāi)始的2.7mm 到末端的0.7mm，范圍比較大，范圍越大，處理的物料顆粒大小越廣。

3、溝槽的結構式斜齒，每個(gè)磨頭的溝槽深度不一樣，并且斜齒的流道的體積從上往下是從大到下。

GM2000系列超細粉體膠體磨設備選型表

注：流量取決于設置的間隙和被處理物料的特性，同事流量可以被調節到zui大允許量的10% 

SGN的GM2000系列和國內設備相比

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