中式型高速分散機，中式型高剪切分散機，中試型研磨分散機，實(shí)驗室中試研磨分散機，中試型分散機，中試型研磨機，專(zhuān)為實(shí)驗室研發(fā)，模擬生產(chǎn)流程，為量產(chǎn)提供可靠的數據論證。該中試型型機器和大型量產(chǎn)機型配置相同，且分散頭的種類(lèi)及相應線(xiàn)速度也相同，中試過(guò)程中的工藝參數在量產(chǎn)化之后不要重新調整，而將機器型號升級過(guò)程中的風(fēng)險降到zui低。

中試型研磨分散機是在中試型膠體磨的基礎上加入了一組分散盤(pán)，剪切細化能力要強于高剪切膠體磨。

GMD2000/4中試型研磨分散設備是SGN（上海）公司經(jīng)過(guò)研究剛剛研發(fā)出來(lái)的一款新型產(chǎn)品，該機特別適合于需要研磨分散乳化均質(zhì)一步到位的物料。我們將三級高剪切均質(zhì)乳化機進(jìn)行改裝，我們將三級變更為一級，然后在乳化頭上面加配了膠體磨磨頭，使物料可以先經(jīng)過(guò)膠體磨細化物料，然后再經(jīng)過(guò)乳化機將物料分散乳化均質(zhì)。膠體磨可根據物料要求進(jìn)行更換（我們提供了2P，2G，4M，6F，8SF等五種乳化頭供客戶(hù)選擇）

        
GMD2000/4的特點(diǎn)：

① 線(xiàn)速度很高，剪切間隙非常小，當物料經(jīng)過(guò)的時(shí)候，形成的摩擦力就比較劇烈，結果就是通常所說(shuō)的濕磨

② 定轉子被制成圓椎形，具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。

③ 定子可以無(wú)限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離

④ 在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。

⑤ 高質(zhì)量的表面拋光和結構材料，可以滿(mǎn)足不同行業(yè)的多種要求。

   
 SGN中試型研磨分散設備的膠體磨頭有很高的線(xiàn)速度，以及特殊上深下淺的三級磨頭結構，一次處理即可滿(mǎn)足細化要求。*級刀頭形狀，可以把相對大塊的物料進(jìn)行初步粉碎，以便能順利通過(guò)更細的兩級進(jìn)行細微化研磨。     磨頭齒列深度為從開(kāi)始的 2.7mm 到末端的0.7mm，除了更精密之外，上深下淺的齒列結構，相較溝槽是直線(xiàn)，同級的溝槽深度一樣的磨頭，可以保證物 料從上往下一直在進(jìn)行研磨。雖和其它產(chǎn)品一樣磨頭采用三級磨齒，但他們只能在一級磨頭到另外一級磨頭形成研磨效果。

     
GMD2000/4為立式分體結構，精密的零部件配合運轉平穩，運行噪音在73DB以下。同時(shí)采用德國博格曼雙端面機械密封，并通冷媒對密封部分進(jìn)行冷卻，把泄露概率降到zui低，保證機器連續24小時(shí)不停機運行。

GMD2000/4中試型研磨分散設備有一定輸送能力，對高固含量有一定粘稠度物料，GM2000設計了符合漿液流體特性的特殊轉子，進(jìn)行物料的推動(dòng)輸送。
           
GMD2000膠體磨標準配置所有與物料接觸部位均為316L不銹鋼，機座采用304不銹鋼。 特殊要求如：硬度較大物料，對鐵雜質(zhì)要求嚴苛的物料，管道有一定壓力并且需不間斷運轉的工況，可選磨頭噴涂碳化物或陶瓷。

    
GMD2000膠體磨腔體外有夾套設計，可通冷卻或者升溫介質(zhì)。GMD2000設計耐受溫度范圍為-20°C-180°C。 可供選擇的選配部件有： -動(dòng)密封動(dòng)靜環(huán)材質(zhì)搭配（碳化硅，合金等） -靜態(tài)密封圈材質(zhì)選型（是否有腐蝕性物料，酸堿度等） -磨頭定轉子材質(zhì)（不銹鋼，碳化鎢鈷，三氧化二鋁等） -是否需要我司配置電控柜。

【膠體磨設備導航】  
設備等級：化工級、衛生S級、衛生SS級、無(wú)菌級
電機形式：普通馬達、變頻調速馬達、防爆馬達、變頻防爆馬達、
電源選擇： 380V/50HZ、220V/60HZ、440V/50HZ
電機選配件： PTG 熱保護、降噪型
膠體磨材質(zhì)：SUS304 、SUS316L 、SUS316Ti
膠體磨選配：儲液罐、排污閥、變頻器、電控箱、移動(dòng)小車(chē)
膠體磨表面處理：拋光、耐磨處理
進(jìn)出口聯(lián)結形式：法蘭、螺口、夾箍
膠體磨選配容器：本設備適合于各種不同大小的容器

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