一、產(chǎn)品名稱(chēng)概述：

北京納米二氧化硅分散液研磨分散機，ox50納米氧化硅分散液分散機，連續式研磨分散機，改進(jìn)型膠體磨研磨分散機

二、基本和物料介紹：

1.思峻（SGN）研磨分散機設計*，能夠延長(cháng)易損件的使用時(shí)間，因此尤其適合高硬度和高純度物料的粉碎?？梢砸粰C多用，也可以單獨使用，且粉碎粒度范圍廣，成品粒徑可以進(jìn)行調整。

2.二氧化硅水分散體在拋光應用(CMP)、紙業(yè)(噴墨)或在玻璃生產(chǎn)中使用。出于經(jīng)濟和實(shí)際應用原因，在這些應用中使用具有高二氧化硅粉末含量的分散體是理想的。

3.含有火焰水解反應工藝生產(chǎn)的二氧化硅并且不含穩定劑的水分散體僅在填充含量低于30重量％時(shí)表現出可接受的穩定性。當填充含量更高時(shí)，其在非常短的時(shí)間內發(fā)生凝結或沉降。

4.納米二氧化硅具有小的粒徑、較大的比表面積和優(yōu)良的化學(xué)性能，表現出良好的親水性、補強性、增稠性、消光性和防茹結性，因此廣泛應用于橡膠、涂料、醫藥、油墨等領(lǐng)域。由于粉體的納米二氧化硅的表面親水疏油，呈強極性，在有機介質(zhì)中難以均勻分散，從而導致材料性能下降。

5.現有技術(shù)中，通常是在納米顆粒膠體物系中加入電解質(zhì)、表面活性劑、聚電解質(zhì)，使之吸附在顆粒表面是防止納米顆粒團聚生長(cháng)的有效方法，這樣可以提高二氧化硅分散液的穩定性。但總體說(shuō)來(lái)，通過(guò)加入電解質(zhì)、表面活性劑、聚電解質(zhì)作用針對分散相，并未實(shí)質(zhì)與納米二氧化硅顆粒結合，因此導致其制備的分散液的分散性均不理想。

6.納米二氧化硅分散到液體之后，依據不同的分散體系，其外觀(guān)從白色乳狀到無(wú)色透明。從檢測上來(lái)看D90<100納米以下的體系，在外觀(guān)上都呈現視覺(jué)透明的狀態(tài)。納米的分散是一個(gè)世界性的技術(shù)難題?？上驳氖悄壳俺霈F了某些技術(shù)，使用某些納米顆?？梢越馍⒌絾畏稚⒌臓顟B(tài)。其中之一就有納米二氧化硅。

三、設備介紹： 

1.上海思峻的研磨分散機特別適合于需要研磨分散均質(zhì)一步到位的物料。研磨分散機為立式分體結構，精密的零部件配合運轉平穩，運行噪音在73DB以下。同時(shí)采用德國博格曼雙端面機械密封，并通冷媒對密封部分進(jìn)行冷卻，把泄露概率降到低，保證機器連續24小時(shí)不停機運行。簡(jiǎn)單的說(shuō)就是將SGN/思峻膠體磨進(jìn)行進(jìn)一步的改良，將單一的膠體磨磨頭模塊，改良成兩級模塊，加入了一級分散盤(pán)?？筛鶕锪弦筮M(jìn)行更換（我們提供了2P，2G，4M，6F，8SF等五種乳化頭供客戶(hù)選擇） SGN研磨分散機可以高速研磨，分散，乳化，均質(zhì)等功能，設備轉速可達14000rpm，是目前普通設備轉速的4-5倍。

2.研磨分散機的特點(diǎn)：

①線(xiàn)速度很高，剪切間隙非常小，當物料經(jīng)過(guò)的時(shí)候，形成的摩擦力就比較劇烈，結果就是通常所說(shuō)的濕磨

②定轉子被制成圓椎形，具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。

③定子可以無(wú)限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離

④在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。

⑤高質(zhì)量的表面拋光和結構材料，可以滿(mǎn)足不同行業(yè)的多種要求。

3.設備其它參數:

設備等級：化工級、衛生I級、衛生II級、無(wú)菌級
電機形式：普通馬達、變頻調速馬達、防爆馬達、變頻防爆馬達、
電源選擇： 380V/50HZ、220V/60HZ、440V/50HZ
電機選配件： PTC 熱保護、降噪型
研磨分散機材質(zhì)：SUS304 、SUS316L 、SUS316Ti,氧化鋯陶瓷
研磨分散機選配：儲液罐、排污閥、變頻器、電控箱、移動(dòng)小車(chē)
研磨分散機表面處理：拋光、耐磨處理
進(jìn)出口聯(lián)結形式：法蘭、螺口、夾箍
研磨分散機選配容器：本設備適合于各種不同大小的容器

4.從設備角度來(lái)分析，影響研磨分散機效果因素有以下幾點(diǎn)：

①研磨頭的形式（批次式和連續式）（連續式比批次式要好）

②研磨頭的剪切速率，（越大效果越好）

③研磨的齒形結構（分為初齒、中齒、細齒、超細齒、越細齒效果越好）

④物料在分散墻體的停留時(shí)間、研磨分散時(shí)間（可以看作同等電機，流量越小效果越好）

⑤循環(huán)次數（越多效果越好，到設備的期限就不能再好了。）

5.線(xiàn)速度的計算：

剪切速率的定義是兩表面之間液體層的相對速率。

剪切速率 (s-1) =      v  速率 (m/s)   
              g 定-轉子 間距 (m)

由上可知，剪切速率取決于以下因素：

轉子的線(xiàn)速率

在種請況下兩表面間的距離為轉子-定子 間距。 
SGN 定-轉子的間距范圍為 0.2 ~ 0.4 mm  

速率V=  3.14 X  D（轉子直徑）X 轉速 RPM  /   60

所以轉速和分散頭結構是影響分散的一個(gè)zui重要因素，高速分散均質(zhì)分散機的高轉速和剪切率對于獲得超細微懸浮液是zui重要的

四、二氧化硅高速研磨分散機參數表：

　　1 表中上限處理量是指介質(zhì)為“水”的測定數據。

　　2 處理量取決于物料的粘度，稠度和ZUI終產(chǎn)品的要求。

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