分子篩催化劑高剪切研磨分散機

分子篩催化劑研磨分散機，分子篩催化劑分散機，分子篩催化劑膠體磨，SGN研磨分散機設計*，能夠延長(cháng)易損件的使用時(shí)間，因此尤其適合高硬度和高純度物料的粉碎?？梢砸粰C多用，也可以單獨使用，且粉碎粒度范圍廣，成品粒徑可以進(jìn)行調整。

分子篩催化劑由于其優(yōu)良的催化性能，已成功地應用于多種化學(xué)反應過(guò)程。在現代石油化工工業(yè)中，丙烯作為一種僅次于乙烯的重要的基本原料，用于許多化學(xué)品的生產(chǎn)。

甲醇制烯烴所采用的分子篩催化劑生產(chǎn)工藝分為兩個(gè)步驟，即分子篩半成品的制備和催化劑成品的制備。分子篩半成品的制備是將原料按照一定比例在特定模板劑條件下合成分子篩前驅液，洗滌過(guò)濾后經(jīng)烘箱干燥環(huán)節并進(jìn)行高溫活化焙燒，焙燒后產(chǎn)品與水混合進(jìn)行研磨打漿，直到漿液中的分子篩分散均勻且粒度達到指標要求，向漿液中加入一定量的配料繼續研磨至粒度合格，得到漿液狀的分子篩催化劑半成品。然后進(jìn)行噴霧造粒干燥，經(jīng)高溫焙燒得到分子篩催化劑。

GMD2000研磨分散機為立式分體結構，精密的零部件配合運轉平穩，運行噪音在73DB以下。同時(shí)采用德國博格曼雙端面機械密封，并通冷媒對密封部分進(jìn)行冷卻，把泄露概率降到低，保證機器連續24小時(shí)不停機運行。

GMD2000系列研磨分散機的結構：研磨式分散機是由錐體磨,分散機組合而成的高科技產(chǎn)品。

一級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無(wú)限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離。在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。

第二級由轉定子組成。分散頭的設計也很好地滿(mǎn)足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線(xiàn)式的定子和轉子（乳化頭）和批次式機器的工作頭設計的不同主要是因為 在對輸送性的要求方面，特別要引起注意的是：在粗精度、中等精度、細精度和其他一些工作頭類(lèi)型之間的區別不光是轉子齒的排列，還有一個(gè)很重要的區別是 不同工作頭的幾何學(xué)特征不一樣。狹槽數、狹槽寬度以及其他幾何學(xué)特征都能改變定子和轉子工作頭的不同功能。根據以往的慣例，依據以前的經(jīng)驗工作頭來(lái)滿(mǎn) 足一個(gè)具體的應用。在大多數情況下，機器的構造是和具體應用相匹配的，因而它對制造出終產(chǎn)品是很重要。

從設備角度來(lái)分析，影響研磨分散機效果因素有以下幾點(diǎn)：

1.研磨頭的形式（批次式和連續式）（連續式比批次式要好）

2.研磨頭的剪切速率，（越大效果越好）

3.研磨的齒形結構（分為初齒、中齒、細齒、超細齒、越細齒效果越好）

4.物料在分散墻體的停留時(shí)間、研磨分散時(shí)間（可以看作同等電機，流量越小效果越好）

5.循環(huán)次數（越多效果越好，到設備的期限就不能再好了。）

線(xiàn)速度的計算：

剪切速率的定義是兩表面之間液體層的相對速率。

剪切速率 (s-1) =      v  速率 (m/s)   
               g 定-轉子 間距 (m)

由上可知，剪切速率取決于以下因素：

轉子的線(xiàn)速率

在這種請況下兩表面間的距離為轉子-定子 間距。 
SGN 定-轉子的間距范圍為 0.2 ~ 0.4 mm  

速率V=  3.14 X  D（轉子直徑）X 轉速 RPM  /   60

 所以轉速和分散頭結構是影響分散的一個(gè)zui重要因素，高速分散均質(zhì)分散機的高轉速和剪切率對于獲得超細微懸浮液是重要的

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