微納米氧化鋁漿料分散機

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一、氧化鋁的廣泛應用

氧化鋁具有硬度高、化學(xué)穩定性好、導熱絕緣性能好等優(yōu)點(diǎn)，已被廣泛應用在陶瓷、無(wú)機膜、研磨拋光材料等領(lǐng)域。用作分析試劑、導熱相變材料、CCL、環(huán)氧塑封料、環(huán)氧澆注料填充劑、導熱鋁基板、導熱硅膠墊、導熱灌封膠、導熱硅脂、導熱膠泥、導熱雙面膠有機溶劑的脫水、吸附劑、催化劑、冶煉鋁的原料、耐火材料。

二、氧化鋁的分散問(wèn)題

近年來(lái)，已超細氧化***體研制功能陶瓷材料和新型功能復合材料受到人們的廣泛關(guān)注。但超細氧化***體比表面積大，表面活性高，單個(gè)超細顆粒往往處于不穩定狀態(tài)，顆粒之間因為相互吸引而團聚，易于失去超細粉體*的性能，因此超細氧化***體的分散，是超細氧化***體走向實(shí)用化的關(guān)鍵。

在水溶液中，氧化鋁漿料中的亞微米機微粒由于受靜電引力等作用發(fā)生團聚，出現絮凝，分層等現象，破壞漿料的分散穩定性。為此漿料的分散穩定性成為人們研究的重點(diǎn)。影響穩定性的因素有很多，如：分散劑種類(lèi)及用量、分散設備的選擇、粉體的粒度及表面性質(zhì)、PH值、溫度等。

當物料工藝確定后，影響分散穩定性的因素就是漿料中粒子的半徑，半徑越小，沉降越慢、穩定性越高。這種情況下要提高分散穩定性就必須選用高品質(zhì)的分散設備，來(lái)獲得更好的物料粒徑，提高分散的均勻性，推薦GMD2000系列研磨分散機，*的結構，膠體磨+分散機一體化設備，14000rpm高轉速，效果好、效率高。

三、微納米氧化鋁漿料分散設備

結合多家化工企業(yè)案例，我司推薦GMD2000系列研磨式高速分散機進(jìn)行氧化鋁分散，一般可獲得超細的物料粒徑，一般為1-2μm左右。當然還要看具體的物料工藝，以及原始狀態(tài)。

GMD2000是由膠體磨和分散機組合而成的設備，轉速高達18000rpm，強大的剪切力。膠體磨磨頭配合分散機分散盤(pán)，先研磨后分散。這種特殊的設計的優(yōu)勢在于，粒子細化之后容易出現絮凝現象，所以此時(shí)分散十分重要，而砂磨機難以分散。

GMD2000系列研磨分散設備是SGN（蘇州）公司經(jīng)過(guò)研究剛剛研發(fā)出來(lái)的一款新型產(chǎn)品，該機特別適合于需要研磨分散乳化均質(zhì)一步到位的物料。我們將高剪切均質(zhì)乳化機進(jìn)行改裝，我們將三層變更為一級，然后在乳化頭上面加配了膠體磨磨頭，使物料可以先經(jīng)過(guò)膠體磨細化物料，然后再經(jīng)過(guò)乳化機將物料分散乳化均質(zhì)。膠體磨可根據物料要求進(jìn)行更換（我們提供了2P，2G，4M，6F，8SF等五種分散頭供客戶(hù)選擇）。

四、實(shí)驗室氧化鋁漿料分散設備

上面介紹的是中試和工業(yè)級使用的分散機，若需要在實(shí)驗室進(jìn)行小試，可以使用SGN的SA25型手持式高剪切分散機，該款產(chǎn)品可以達到28000rpm的高轉速，團聚顆粒經(jīng)過(guò)工作頭下方吸料進(jìn)入剪切區域，被瞬間撕裂，同時(shí)在顆粒表面形成靜電電荷，達到混為排斥進(jìn)而不再團聚的效果。

研磨分散機選型表

微納米氧化鋁漿料分散機