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硅橡膠改性研磨分散機

硅橡膠改性研磨分散機,GMD2000系列研磨分散機的結構:研磨式分散機是由膠體磨,分散機組合而成的高科技產(chǎn)品。第一級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。

  • 產(chǎn)品型號:GMD2000
  • 廠(chǎng)商性質(zhì):生產(chǎn)廠(chǎng)家
  • 更新時(shí)間:2022-09-30
  • 訪(fǎng)  問(wèn)  量:980
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產(chǎn)品詳情

硅橡膠改性研磨分散機,納米物料改性硅橡膠分散機,硅橡膠改性設備,高剪切研磨分散機,納米分散機,超細分散機
     
硅橡膠具有優(yōu)異的耐熱性、耐寒性和電性能,廣泛用于電絕緣制品和密封制品等領(lǐng)域中,近幾年得到了長(cháng)足發(fā)展。隨著(zhù)工業(yè)化水平的不斷提高,人們對硅橡膠的要求也越來(lái)越高,傳統的硅橡膠產(chǎn)品難以滿(mǎn)足人們的要求,尤其在機械性、阻燃性和抗老化性等方面,因此,對硅橡膠進(jìn)行改性勢在必行。

       

納米粒子具有量子尺寸效應、小尺寸效應、表面效應和宏觀(guān)量子隧道效應,因而展現出許多*的性質(zhì)。在催化、光吸收、磁介質(zhì)及新材料等領(lǐng)域有良好的發(fā)展前景,在對高分子材料性能的改善與提高方面也具有巨大的發(fā)展空間。利用納米材料作為改性劑對室溫硫化硅橡膠進(jìn)行相關(guān)性能研究是一種新穎而有效的手段,納米SiOx粒子尺寸在10-15 nm,表面原子數目多,具有較高的表面能和表面結合能;

    

同時(shí),納米SiOx粒子表面氧原子大量流失,納米SiOx分子式中值在1.2~1.6之間,因而粒子表面欠氧而具有不穩定的硅氧結構;另外,納米SiOx粒子表面還含有大量羥基,表面羥基值高達48%。因而利用納米SiOx對室溫硫化硅橡膠改性時(shí)將產(chǎn)生特殊的效果。并且,納米SiOx的主要成分與室溫硫化硅橡膠的主鏈組成相同,有利于納米材料在其中分散。再加以高精密的分散設備的配合,防止納米SiOx在分散中形成二級團聚體,SGN研磨分散機在納米改性硅橡膠領(lǐng)域有著(zhù)豐富的經(jīng)驗,設備的結構以及高的轉速,可以很好的將納米物料分散到硅橡膠中,從而更充分的改進(jìn)硅橡膠的性能。        

GMD2000系列研磨分散設備是SGN(上海)公司經(jīng)過(guò)研究剛剛研發(fā)出來(lái)的一款新型產(chǎn)品,該機特別適合于需要研磨分散乳化均質(zhì)一步到位的物料。我們將三級高剪切均質(zhì)乳化機進(jìn)行改裝,我們將三級變跟為一級,然后在乳化頭上面加配了膠體磨磨頭,使物料可以先經(jīng)過(guò)膠體磨細化物料,然后再經(jīng)過(guò)乳化機將物料分散乳化均質(zhì)。膠體磨可根據物料要求進(jìn)行更換(我們提供了2P,2G,4M,6F,8SF等五種乳化頭供客戶(hù)選擇)。

 

GMD2000系列研磨分散機的結構:研磨式分散機是由膠體磨,分散機組合而成的高科技產(chǎn)品。第一級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無(wú)限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離。在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。第二級由轉定子組成。分散頭的設計也很好地滿(mǎn)足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。 

GMD2000系列研磨分散機的特點(diǎn)

①線(xiàn)速度很高,剪切間隙非常小,當物料經(jīng)過(guò)的時(shí)候,形成的摩擦力就比較劇烈,結果就是通常所說(shuō)的濕磨

②定轉子被制成圓椎形,具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。

③定子可以無(wú)限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離

④在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。

⑤高質(zhì)量的表面拋光和結構材料,可以滿(mǎn)足不同行業(yè)的多種要求。

 

硅橡膠改性研磨分散機,納米物料改性硅橡膠分散機,硅橡膠改性設備,高剪切研磨分散機,納米分散機,超細分散機

 

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